聚合物光波导的反应离子刻蚀工艺研究
内容简介
实验研究了表面粗糙度、侧壁垂直度与各刻蚀参量之间的关系，通过对刻蚀效果的分析，发现 在低功率、高CHF3含量、低压强的情况下能获得最小的表面粗糙度；在高功率、50％CHF3含量、低 压强的情况下能获得较陡直的波导侧壁。利用优化的刻蚀条件，对PMMA进行刻蚀，得到了均方 根粗糙度小、侧壁陡直的波导。实验发现，该刻蚀条件对其他聚合物光波导材料的刻蚀也具有一 定的指导意义。
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