什么是真空阴极磁控溅射镀膜法?
“控阴极溅射的原理”是在阴极内部装有永久磁铁或电磁铁。磁场穿透阴极表面的金属溅射靶,在对溅射阴极通电时,产生了一次电子,一次电子既在磁场束缚下又在电场的加速下,形成螺旋式运动轨迹,大大增加了加速时间及运动路程,提高了与空间气体分子相碰撞的几率和速度,从而提高了溅射沉积率。
采用真空磁控溅射镀膜法生产热反射镀膜玻璃,是目前国际上生产大面积镀膜玻璃的最先进工艺方法,比传统的镀膜方法在产品质量、功能、劳动生产率、成本等方面有显著的改进。除具有上述特点外采用真空磁控溅射镀膜法生产热反射镀膜玻璃,还具有膜层牢固和均匀,化学稳定性能好等优点。并能获得多种理想的光学性能和丰富的反射颜色。
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